テクノロジー

半導体工場向け技術

半導体洗浄に必要とされる
最先端の超純水技術をフィードバック。

ピューリックωは半導体洗浄用超純水精製技術をもとに開発しました。
常に最先端の超純水技術を追い求める姿勢と
半導体業界シェアトップクラスの実績を誇る
オルガノのテクノロジーが生きています。

半導体洗浄用超純水プラントの処理フローを実装

超純水プラントでは常に最高水質を維持する必要があるため(二次)超純水装置では連続循環運転が「常識」です。
ピューリックωもこのコンセプトを踏襲し、連続循環運転を実装しています。

既存ラボ用超純水の水質レベルを超える性能

ピューリックωではこのような技術を駆使し今までのラボ用超純水の水質レベルを超える超純水を得ることができます。

水質分析例単位:ppt
元素 ラボ用超純水
(従来品)
ピューリックω
ナトリウム 0.5 < 0.1
カリウム 0.3 < 0.1
カルシウム 0.4 < 0.1
マグネシウム 0.3 < 0.1
亜鉛 0.9 < 0.1

有識者の声 だからωは支持される

最先端で、日本トップクラスの有識者が認めたピューリックω。
彼らの言葉が日本の「超超純水」を創っていく。